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光刻机像质检测技术（下册）

￥228.00定价

作者：王向朝等

出版时间：2023-07

出版社：科学出版社

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基本信息评价

出版社：科学出版社
ISBN：9787030673558
版次：31
图书编号：466387
装帧：圆脊精装
出版时间：2023-07
页数：500
中图分类编号：TN305.7

内容简介

光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。